본 기술은 플라즈마 발생장치에 관한 것으로 유전체와 동일한 재질의 보호층을 적용하여 방전 시 열구배를 완화하고 내화확성을 높여 장치 수명을 연장하는 기술임.
또한, 전극 및 홀 구조를 기반으로 활성종 농도 및 조성 조절이 가능한 플라즈마 장치에 대한 기술임.