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ECR 플라즈마 발생장치 및 고품질 박막증착(스퍼터링) 기술
ECR 플라즈마 발생장치 및 고품질 박막증착(스퍼터링) 기술
기술분야
소재ㆍ장비
기술유형
특허
개발상태
TRL4(실험실 규모의 핵심성능 평가 완료)
거래유형
통상실시권
보유기관
한국핵융합에너지연구원
보유국가
대한민국
지식재산권
10-1677441, 10-1335187
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기술 개요
ECR 공명 자기장이 형성된 스퍼터링 타겟 표면 부근에 마이크로파(예, 2.45 GHz)를 입사시켜 플라즈마를 발생시키고, 타겟에 전압을 인가하여 스퍼터링을 구현하는 기술임.
기술소개자료(SMK)