기술분야 | 소재·장비 분야 | 기술유형 | 특허 |
---|---|---|---|
개발상태 | TRL4(실험실 규모의 핵심 성능 평가 완료) | 거래유형 | 통상실시권 |
보유기관 | 한국핵융합에너지연구원 | 보유국가 | 대한민국 |
지식재산권 | 10-2022-0113477, 10-2022-0166500, 10-2022-0166849, 10-2022-0113586, 10-2023-0047939 |
본 기술은 고밀도, 고온, 대면적 자화 플라즈마 발생이 가능한 공진 도파관에 의한 플라즈마 발생장치에 관한 기술임.
복수의 튜너를 이용하여 플라즈마 균일도 조절이 가능하며, 고전력 전달이 가능한 플라즈마 발생원 장치를 제공함.