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신청번호 | TDR-2025-009 | 기관 | - 한국핵융합에너지연구원 | 진행현황 | 취소 |
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상담제목 | SiC 표면개질개선 |
제안형태 | 플라즈마/플라즈마 R&D |
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제안주제 | SiC 표면개질개선 |
분야 | 재료 |
기업정보 | 기업명 | 하나머티리얼즈 | 대표자명 | 김현주 |
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설립일자 | 0000-00-00 | 기업형태 | 중견기업 | |
사업자등록번호 | 312-81-88209 | 상시종업원수 | 750 | |
주업종 | 홈페이지 | www.hanamts.com | ||
주요생산제품 | Parts · Silicon electrode & ring · SiC ring · Silicon Ingot · | |||
인장 | ||||
소재지 | 본사 | 충남 천안시 서북구 3공단 3로 50 | ||
공장 | ||||
재무 | 총자산 | 9800 | 자기자본 | 0 |
매출액(당해년도) | 0 | 당기순이익 | 0 | |
R&D 현황 | R&D 전담부서 유무 | 있음 | ||
연구소/부서명 | 전담인원 | |||
실무담당자 | 성명 | 이*영 | 이메일 | |
부서명 | 연구소 | 직위 | 수석 | |
전화번호 | 휴대폰 |
신청기업 주요사항 |
반도체 장비회사의 OEM 공급업체 | ||
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제품 및 보유기술 현황 |
LAM, AMAT, TEL, 세메스 등 | ||
해당기술 개발의 한계점 |
CVD SiC 소재에 대하여 mechanical polishing 이외 표면개질개선(Ra, Damage Layer) 방법을 찾고 있습니다. Ra 0.02um 이하, Rz 0.1um 이하, 표면 tool mark free의 표면 형성을 희망하며 초정밀 연마용 플라즈마 등을 이용하여 귀 기관에서 가능한 방법의 시편 테스트를 희망합니다. |
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수요기술 제안내용 |
CVD SiC 소재 ring의 표면개질개선 | ||
기업의 연구성과 활용방안 |
CVD SiC 소재 ring 양산품 적용 및 사업화 | ||
기술이전 의향 여부 | 있음 | ||
기업투자내역 | 예 산 | ||
인 력 | |||
장비 / 재료 | |||
테스트 샘플 | |||
첨부파일 |