ACE 통합지원센터

핵융합·플라즈마 관련 중소기업 기술지원을 위한 혁신성장 플랫폼입니다

기업맞춤형 기술지원, 정책뉴스, 지원사업소개, 유망기술 제공 등
다양한 기업지원 정보제공을 위해 노력하겠습니다.

유망기술소개(SMK)
기술명 (2-1) ECR 플라즈마 발생장치 및 고품질 박막 증착장치
기술완성도(TRL) TRL6
주발명자 김성봉
출원번호 10-2012-0049386 출원일 2012-05-09
등록번호 10-1383530 등록일 2014-04-02
연구분야 플라즈마 발생 장치, 스퍼터 장치
관련 특허번호 10-2012-0049386 pdf10-138353010-130701910-1677441
기술개요 • 선형(Linear) 구조 및 원형(Cylinder) 구조 모두가 가능한 ECR 플라즈마 발생 장치에 관한 기술임.
• 벨트형 자석 구조와 이에 맞는 마이크로파 Launcher가 핵심 기술임.
• 플라즈마 장치, 이온빔 장치, 스퍼터 장치 등에 활용 가능함.
기술적 개선점 • 금속 챔버 벽을 사용함으로써, Quartz나 Ceramic 재질의 챔버 벽을 사용하는 기존 기술의 여러 가지 문제점을 해결함.
• 도파관 구조의 마이크로파 Launcher를 사용함으로써, 안테나를 통하여 마이크로파를 입사하는 기존 기술의 여러 가지 문제점을 해결함.
• 기존 ECR 플라즈마의 형태에서 벗어나, 선형 장치 및 원형 장치 모두 가능함.
시장전망 • 전 세계 반도체 제조장비 시장은 2020년 624억 달러에서 연평균 성장률 9.0%로 증가하여, 2025년에는 959억 달러에 이를 것으로 전망됨.
• 국내 반도체 제조장비 시장은 2020년 128억 2000만 달러에서 연평균 성장률 8.9%로 증가하여, 2025년에는 196억 4000만 달러에 이를 것으로 전망됨.
기술사진 및 설명1 • 자석이 벨트와 같은 형태로 구성되어 있고, 자석 사이의 간격이 없어 플라즈마 가둠 효과가 뛰어나 고밀도 플라즈마 발생이 가능함.
• 슬릿을 포함한 도파관 구조의 마이크로파 Launcher는 ECR 가열 효과가 뛰어난 곳에 위치함.
• 챔버 벽은 SUS와 같은 금속으로 구성이 가능하여 Quartz, Ceramic 재질의 벽에서 국부 가열에 의한 Crack에 대한 문제와 챔버 벽의 오염에 의한 마이크로파 효율 감소 등의 문제에서 자유로움.
기술사진 및 설명2
응용분야 • 디스플레이 : 고품질 박막 증착 장비(투명전극, 산화막, 질화막 등)
• 반도체 : 식각 장비, 이온빔 장치
예상설비구축비용 장비 유형(선형, 원형) 및 크기에 따라 상이 설비 및
이전예상소요시간
6~12개월
참고 자료 pdf2-1_ECR_플라즈마_발생장치_및_고품질_박막_증착장치.pdf
기술문의 성과확산실 안유섭 042-879-6235, yousub@kfe.re.kr