ACE 통합지원센터

핵융합·플라즈마 관련 중소기업 기술지원을 위한 혁신성장 플랫폼입니다

기업맞춤형 기술지원, 정책뉴스, 지원사업소개, 유망기술 제공 등
다양한 기업지원 정보제공을 위해 노력하겠습니다.

유망기술소개(SMK)
기술명 (2-2) 고유량 원격 플라즈마 세정원을 위한 수냉식 표면파 플라즈마 장치
기술완성도(TRL) TRL8
주발명자 유현종
출원번호 10-2015-0129677 출원일 2015-09-14
등록번호 10-1734900 등록일 2017-05-04
연구분야 마이크로웨이브 플라즈마 발생원 기술
관련 특허번호 10-2015-0129677pdf10-173490010-137606910-1820242
기술개요 • 원격 플라즈마 세정원을 위한 새로운 형태의 수냉식 마이크로웨이브 플라즈마 장치: 유전체관을 냉각시키기 위한 냉각 유체가 방전관 내부로 유입되는 문제를 원천 차단하고, 냉각 유체에 의한 마이크로웨이브 손실을 최소화한 고효율 컴팩트 마이크로웨이브 표면파 전달 구조 기술임.
기술적 개선점 • 전자기파의 손실을 최소화하여 유전체관 내부로 전자기파를 효율적으로 전달할 수 있음.
• 저손실 유전체 냉각수가 불필요함.
• 방전관의 소형화에 따른 장치 크기의 축소 및 제작 비용이 감소됨.
• 장기간 고온의 플라즈마에 노출된 유전체관에 균열이 발생하더라도 유전체관 내부로 냉각 유체의 유입 가능성이 원천 차단됨.
시장전망 • 전 세계 반도체 제조장비 시장은 2020년 624억 달러에서 연평균 성장률 9.0%로 증가하여, 2025년에는 959억 달러에 이를 것으로 전망됨.
• 국내 반도체 제조장비 시장은 2020년 128억 2000만 달러에서 연평균 성장률 8.9%로 증가하여, 2025년에는 196억 4000만 달러에 이를 것으로 전망됨.
기술사진 및 설명1
기술사진 및 설명2
응용분야
예상설비구축비용 8천만 원 설비 및
이전예상소요시간
6개월
참고 자료 pdf2-2_고유량_원격_플라즈마_세정원을_위한_수냉식_표면파_플라즈마_장치.pdf
기술문의 성과확산실 안유섭 042-879-6235, yousub@kfe.re.kr