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유망기술소개(SMK)
기술명 (2-4) 초정밀 원자층 연마 방법 및 장치
기술완성도(TRL) TRL5
주발명자 최용섭
출원번호 10-2017-0144433 출원일 2017-11-01
등록번호 10-2016927 등록일 2019-08-27
연구분야 산업체 응용 플라즈마 발생원 개발 및 환경개선 융복합기술 연구
관련 특허번호 10-2017-0144433pdf10-2016927
기술개요 • 본 기술은 실리콘 카바이드와 같은 두 가지 원소 결정 물질을 원자층 단위로 연마할 수 있게 한 새로운 원자층 연마 시스템 및 연마 방법에 관한 기술임.
기술적 개선점 • 실리콘 카바이드와 같은 경도가 높고 화학적으로 매우 안정적인 제품의 표면을 국소적으로 원자층 단위로 제거하여 보정가공 연마가 가능함.
• 우주광학부품 및 초정밀 광학 부품의 경우 이온빔을 이용하여 최종 보정가공 연마를 수행하는데 이때 높은 이온빔에너지에 의해서 하부결정구조가 손상됨. 반면 본 기술은 원자층 단위로 연마하여 하부층 손상이 전혀 없이 가공이 가능함.
• 분사부가 자유롭게 이동되어 원하는 연마지점을 연마할 수 있으며, 불활성 가스이온을 분사하는 플라즈마 직격을 제어하여 연마영역을 제어할 수 있음.
시장전망 • Market and Market에서 2021년에 발행한 SiC 시장조사보고서에 의하면 자동차 산업 부문에서 글로벌 SiC 시장 규모는 2018~2020년 사이에 연평균 47.3% 성장했고 2021~2026년 예측기간 동안 연평균 29%로 다른 부문보다 월등한 비율로 성장할 것으로 전망됨.
• SiC 전력소자를 탑재한 전기차 출하량이 증가하고 장거리 주행을 위한 고속 전기차 충전소가 늘어나면서, SiC 전력소자 시장이 빠르게 성장하고 있음.
• 특히 SiC의 구체적 사용처로 EV 모터 드라이브 부문은 2021~2026년 예측기간 동안 시장 규모가 무려 연평균 40% 성장할 것으로 예상되어 SiC의 시장 전망이 밝음.
기술사진 및 설명1
기술사진 및 설명2
응용분야 • 인공위성 주요부품인 자유형상 초정밀 광학계 가공
• 우주광학 및 첨단 부품 소재 가공공정
예상설비구축비용 설비 및
이전예상소요시간
참고 자료 pdf2-4_초정밀_원자층_연마_방법_및_장치.pdf
기술문의 성과확산실 안유섭 042-879-6235, yousub@kfe.re.kr