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| 기술명 | (2-9) 액체 전극을 이용한 금속코팅 및 액체살균 가능한 플라즈마 장치 | ||
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| 기술완성도(TRL) | TRL3 | ||
| 주발명자 | 유승열 | ||
| 출원번호 | 10-2018-0129231 | 출원일 | 2018-10-26 |
| 등록번호 | 10-2167872 | 등록일 | 2020-10-14 |
| 연구분야 | 액상 플라즈마 발생기술(살균, 소독, 폐수 정화용), 대기압 저온 플라즈마를 이용한 분체 표면처리 기술 | ||
| 관련 특허번호 |
10-2018-0129231 10-166112410-166113510-159973310-1479261
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| 기술개요 | • 액체와 액체 사이에서 플라즈마를 발생시키는 기술임. • 액상물질을 이온화시켜 피처리물에 코팅을 할 수 있음. • 액체를 살균, 소독할 수 있는 액상 전극장치에 대한 기술임. |
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| 기술적 개선점 | • 기존 플라즈마 수처리용 방전 전극의 구조는 액체내부에 고전압을 인가하기 위한 금속전극이 수중에 직접 닿아있어 전기분해, 부식에 의해 수명이 단축되는 문제가 있음. • 액체에 에너지를 가하여 플라즈마를 발생시키는 기존 장치는 수중, 수표면에서 플라즈마를 발생시키므로 스퍼터링, 아크전류에 의해 전극물질이 밖으로 드러나는 단점이 있음. • 액체 간 플라즈마 발생에 기초한 새로운 방법을 제공하고 이를 바탕으로 코팅 및 수처리 방법을 제시함. |
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| 시장전망 | • Polaris market research(2018)에 따르면, 세계 화학기상증착(chemical vapor deposition; CVD) 시장은 2017년 기준 234억 달러로 조사 되었으며, 2026년까지 연평균 8.1% 성장할 것으로 전망됨. • 전자 제조 및 반도체 응용 분야는 CVD (chemical vapor deposition) 시장에 대한 수요를 강력하게 주도하고 있으며, 노트북, 휴대 전화, 데이터 저장 장치 및 첨단 집적 회로와 같은 첨단 및 내구성 전자 제품에 대한 수요 증가로 인해 CVD 장비 및 기술의 사용은 증가하고 있음. • 스마트 디바이스의 현대적이고 내구성이 좋고 소형화 된 구성 부품은 CVD로 코팅되며, 특히, CVD 분야에서 가장 빠른 성장세를 보이는 부문은 플라즈마를 이용한 CVD와 같은 보다 진보된 기술을 적용하는 서비스임. • 북미 지역은 유럽 다음으로 가장 큰 시장으로 조사되었으며, 태양광 및 반도체 산업의 상승 추세로 인해 CVD 수요가 증가하고 있으며, 민간 투자를 장려하는 정부 정책으로 꾸준한 성장이 예상됨. |
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| 기술사진 및 설명1 |
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| 기술사진 및 설명2 |
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| 응용분야 | • 반도체 분야의 실리콘 웨이퍼, LCD 글라스, FPD 기판의 유기물, 산화막, 표면 잔사 제거 • 기존 습식 화학적 공정 개선(투자, 유지비) • 공업용수/폐수정화, 생활용수 살균/소독용 친환경 적용 기술 • 분말소재(폴리머, 세라믹 등) 개질, 이차전지 재료 표면의 친수/발수막 코팅 기술 |
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| 예상설비구축비용 | 설비 및 이전예상소요시간 |
6~8개월 | |
| 참고 자료 |
2-9_액체_전극을_이용한_금속코팅_및_액체살균_가능한_플라즈마_장치.pdf
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| 기술문의 | 성과확산실 안유섭 042-879-6235, yousub@kfe.re.kr | ||
