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유망기술소개(SMK)
기술명 (2-7) 분말 플라즈마 처리장치
기술완성도(TRL) TRL4
주발명자 석동찬
출원번호 10-2019-0013448 출원일 2019-02-01
등록번호 10-2208457 등록일 2021-01-21
연구분야 대기압 플라즈마 발생원
관련 특허번호 10-2019-0013448pdf10-220845710-1428524
기술개요 • 본 기술은 분말의 표면을 균일하게 처리할 수 있고, 분말 표면의 처리 효율이 증대될 수 있도록 하는 분말 플라즈마 처리장치에 관한 기술임.
기술적 개선점 • 분말 표면 처리시 플라즈마 발생공간에서 분말이 이탈되지 않도록 하여 균일한 표면처리가 가능함.
• 분말이 수용되는 플라즈마 발생공간 내에 발생되는 플라즈마 양이 증가하며, 손실을 줄여 표면처리 효율이 증대함.
• 폴리머, 세라믹 분체의 표면에너지 증가/감소(친수/발수) 처리가 가능하고, 분체의 표면에 특수한 기능성 부여공정이 가능함.
시장전망 • 세계 금속 표면처리 시장은 2020년 952억 1342만 달러에서 2025년 1,177억 9,110만 달러로 성장에 달할 것 예상되며, 예측기간 동안 연평균 성장률(CAGR)은 4.35%를 기록할 것으로 전망됨.
• 전통적인 금속 표면처리 기술은 에폭시 또는 우레탄 기반 열 경화 코팅을 기초로 하지만 이는 다량의 위험한 VOCs를 발생시키므로, 최근에는 기존의 용매기반 기술이 UV(자외선) 경화나 EB(전자 빔) 기술로 대체되고 있음.
• 친환경 기술이 금속 표면처리 공정의 적용을 증가시킬 가능성이 높기 때문에 다양한 산업에 걸쳐 이러한 기술의 적용은 금속 표면처리 시장에 중요한 기회를 제공함.
기술사진 및 설명1
기술사진 및 설명2 • 기존 건식방법은 분체 재료들의 표면을 개질하여 슬러리, 콜로이드 안정성 강화, 분체균질 혼합, 기능성 부여 등을 처리하기는 어려우며, 습식방법은 다량의 폐수를 발생시키고 높은 에너지로 장시간의 건조시간을 필요로 하는 단점이 있음.
• 해당 기술은 새로운 건식방법으로 폐수 발생이 없고, 적은 에너지만으로 여러 가지 습식 분체 처리공정을 대체할 수 있음.
응용분야 • 고기능성 플라스틱 분체, 멤브레인, 박막 제조 공정
• 제약, 화장품, 이차전지 대료 등 혼합, 현탁 및 분체 재료 기능성 부여 공정
• 유무기 분체 콜로이드 제조 공정
예상설비구축비용 설비 및
이전예상소요시간
6~12개월
참고 자료 pdf2-7_분말_플라즈마_처리장치.pdf
기술문의 성과확산실 안유섭 042-879-6235, yousub@kfe.re.kr