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유망기술소개(SMK)
기술명 (2-10) 분말 플라즈마 처리장치
기술완성도(TRL) TRL4
주발명자 석동찬
출원번호 10-2019-0013448 출원일 2019-02-01
등록번호 10-2208457 등록일 2021-01-21
연구분야 대기압 플라즈마 발생원
관련 특허번호 10-2019-0013448pdf10-145841110-1428524
기술개요 • 기술은 분말의 표면을 균일하게 처리할 수 있고, 분말 표면의 처리 효율이 증대될 수 있도록 하는 분말 플라즈마 처리장치에 관한 기술임.
기술적 개선점 • 분말 표면 처리시 플라즈마 발생공간에서 분말이 이탈되지 않도록 하여 균일한 표면처리가 가능함.
• 분말이 수용되는 플라즈마 발생공간 내에 발생되는 플라즈마 양이 증가하며, 손실을 줄여 표면처리 효율이 증대함.
• 폴리머, 세라믹 분체의 표면에너지 증가/감소(친수/발수) 처리가 가능하고, 분체의 표면에 특수한 기능성 부여공정이 가능함.
시장전망 • 전세계 표면처리 시장규모는 2016년 약 1,437억 달러에서 2021년 2,082억 달러로 지속 성장이 예측됨.
• 국내 표면처리 시장규모는 2016년 약 11.6조원에서 2021년 18.4조 원으로 연평균 9.7%로 성장세를 보일 것으로 전망됨.
• 국내 표면처리 시장은 반도체, 디스플레이, 자동차, 핸드폰 산업의 지속적 성장으로 향후 시장 규모가 꾸준히 증가할 것으로 전망됨.
기술사진 및 설명1
기술사진 및 설명2
응용분야 • 고기능성 플라스틱 분체, 멤브레인, 박막 제조 공정
• 제약, 화장품, 이차전지 대료 등 혼합, 현탁 및 분체 재료 기능성 부여 공정
• 유무기 분체 콜로이드 제조 공정
예상설비구축비용 설비 및
이전예상소요시간
6~12개월
참고 자료 pdf2-10_분말_플라즈마_처리장치.pdf
기술문의 성과확산실 안유섭 042-879-6235, yousub@kfe.re.kr