기술소개서
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시장자료
특허구매 서식
본 기술은 고밀도, 고온, 대면적 자화 플라즈마 발생이 가능한 공진 도파관에 의한 플라즈마 발생장치에 관한 기술임. 복수의 튜너를 이용하여 플라즈마 균일도 조절이 가능하며, 고전력 전달이 가능한 플라즈마 발생원 장치를 제공함.